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A Platform for Properties Investigation of Narrow Gap Electrostatic Discharge
会议论文
OAI收割
Beijing, 1-4 Sept. 2022
作者:
Ruan FM
;
Yin L
;
Chai YQ
;
Meng Y(孟洋)
;
Ji QZ
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浏览/下载:34/0
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提交时间:2022/12/29
Constant voltage stress characterization of nFinFET transistor during total ionizing dose experiment
会议论文
OAI收割
作者:
Li BH(李彬鸿)
;
Huang Y(黄杨)
;
J.Wu
;
Huang YB(黄云波)
;
Li B(李博)
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浏览/下载:44/0
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提交时间:2019/05/13
Process variation dependence of total ionizing dose effects in bulk nFinFETs
会议论文
OAI收割
作者:
Li B(李博)
;
Huang YB(黄云波)
;
L.Yang
;
Zhang QZ(张青竹)
;
Zheng ZS(郑中山)
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浏览/下载:52/0
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提交时间:2019/05/13
Constant voltage stress characterization of nFinFET transistor during total ionizing dose experiment
期刊论文
OAI收割
Microelectronics Reliability, 2018
作者:
Zhang QZ(张青竹)
;
Yin HX(殷华湘)
;
Han ZS(韩郑生)
;
Luo JJ(罗家俊)
;
Li B(李博)
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浏览/下载:23/0
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提交时间:2019/03/27
Process variation dependence of total ionizing dose effects in bulk nFinFETs
期刊论文
OAI收割
Microelectronics Reliability, 2018
作者:
Zheng ZS(郑中山)
;
Huang YB(黄云波)
;
Li B(李博)
;
Luo JJ(罗家俊)
;
Han ZS(韩郑生)
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浏览/下载:26/0
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提交时间:2019/03/28
Comparative Investigation of Flat-Band Voltage Modulation by Nitrogen Plasma Treatment for Advanced HKMG Technology
期刊论文
OAI收割
ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2018
作者:
Zhang QZ(张青竹)
;
Yao JX(姚佳欣)
;
Yin HX(殷华湘)
;
Wu ZH(吴振华)
;
Gao JF(高建峰)
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提交时间:2019/05/05
Physical Insights on Quantum Confinement and Carrier Mobility in Si, Si0.45Ge0.55, Ge Gate-All-Around NSFET for 5 nm Technology Node
期刊论文
OAI收割
Journal of the Electron Devices Society, 2018
作者:
Gu J(顾杰)
;
Wen Yang
;
Wu ZH(吴振华)
;
Yin HX(殷华湘)
;
Wang WW(王文武)
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浏览/下载:35/0
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提交时间:2019/05/05
Total Ionizing Dose Response and Annealing Behavior of Bulk nFinFETs With ON-State Bias Irradiation
期刊论文
OAI收割
IEEE TRANSACTIONS ON NUCLEAR SCIENCE, 2018
作者:
Yang L(杨玲)
;
Zhang QZ(张青竹)
;
Huang YB(黄云波)
;
Zheng ZS(郑中山)
;
Li B(李博)
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2019/03/28
Novel GAA Si Nanowire p-MOSFETs With Excellent Short-Channel Effect Immunity via an Advanced Forming Process
期刊论文
OAI收割
IEEE Electron Device Letters, 2018
作者:
Zhang QZ(张青竹)
;
Yin HX(殷华湘)
;
Meng LK(孟令款)
;
Yao JX(姚佳欣)
;
Li JJ(李俊杰)
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提交时间:2019/05/05
Total Ionizing Dose Response and Annealing Behavior of Bulk nFinFETs With ON-State Bias Irradiation
期刊论文
OAI收割
IEEE TRANSACTIONS ON NUCLEAR SCIENCE, 2018, 卷号: 65, 期号: 8, 页码: 1503-1510
作者:
Yang, L (Yang, Ling)[ 1,2 ]
;
Zhang, QZ (Zhang, Qingzhu)[ 1,3 ]
;
Huang, YB (Huang, Yunbo)[ 1,2 ]
;
Zheng, ZS (Zheng, Zhongshan)[ 1,2 ]
;
Li, B (Li, Bo)[ 1,2 ]
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浏览/下载:42/0
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提交时间:2018/09/18
Anneal
Finfet
On-state Bias
Total Ionizing Dose (Tid)