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发表日期

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学科主题

• 半导体材料 [1]

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浏览/检索结果: 共26条，第1-10条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 GaSb单晶衬底表面形貌及残留缺陷研究 学位论文  OAI收割 硕士, 北京: 中国科学院研究生院, 2015 程雨 收藏  |  浏览/下载：62/0  |  提交时间：2015/05/29 锑化镓（GaSb）  化学机械抛光  二次离子质谱（SIMS）  XPS  表面形貌   循环注液在环抛中的应用研究 学位论文  OAI收割 硕士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2014 作者:  陈国凯 收藏  |  浏览/下载：50/0  |  提交时间：2016/11/28 化学机械抛光，循环注液，激光玻璃，粒度，去除率，过滤   聚苯乙烯/氧化硅核壳型复合磨料的制备及其在铜化学机械抛光的应用研究 学位论文  OAI收割 硕士, 北京: 中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所）  , 2011 张磊 收藏  |  浏览/下载：36/0  |  提交时间：2013/04/24 硅溶胶  PS/SiO2  核壳结构  复合磨料  铜化学机械抛光   一种新型复合磨料对铜的化学机械抛光研究 期刊论文  OAI收割 功能材料与器件学报, 2011, 期号: 05 张磊; 汪海波; 张泽芳; 王良咏; 刘卫丽; 宋志棠 收藏  |  浏览/下载：23/0  |  提交时间：2012/04/13 PS/SiO2  复合磨料  铜  化学机械抛光   基于扩展卡尔曼滤波的动量轮故障检测方法 期刊论文  OAI收割 航空学报, 2010, 期号: 08 李知周; 张锐; 朱振才; 梁旭文 收藏  |  浏览/下载：15/0  |  提交时间：2012/01/06 蓝宝石  化学机械抛光(CMP)  二氧化硅  pH值  Heresy系数   浅沟道隔离用高活性氧化铈化学机械抛光液研究 学位论文  OAI收割 博士: 中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所）  , 2010 王良咏 收藏  |  浏览/下载：108/0  |  提交时间：2012/03/06 化学机械抛光  浅沟道隔离  CeO2  抛光垫  光学玻璃   相变材料的化学机械抛光工艺研究 学位论文  OAI收割 博士: 中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所）  , 2010 钟旻 收藏  |  浏览/下载：32/0  |  提交时间：2012/03/06 相变存储器  Ge2Sb2Te5  化学机械抛光工艺  Si2Sb2Te5  工艺集成   表面粗糙度对化学机械抛光工艺过程流动性能的影响 期刊论文  OAI收割 润滑与密封, 2009, 期号: 8, 页码: 33-38+52 作者:  高太元;  李明军 收藏  |  浏览/下载：1711/349  |  提交时间：2010/05/03 化学机械抛光,润滑方程,粗糙表面,分形   CMP流场的数值模拟及离心力影响分析 期刊论文  OAI收割 力学学报, 2008, 卷号: 40, 期号: 6, 页码: 729-734 作者:  高太元;  李明军;  胡利民;  高智 收藏  |  浏览/下载：1762/93  |  提交时间：2010/05/03 化学机械抛光  离心力  润滑方程  压力分布  Chebyshev加速超松弛技术   冰洲石晶体的化学机械抛光研究 期刊论文  OAI收割 机械工程师, 2008, 期号: 8 王海鹏; 王永宪; 王善军; 薛军 收藏  |  浏览/下载：22/0  |  提交时间：2012/09/25 冰洲石  化学机械抛光  工艺技术  性能测试