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浏览/检索结果: 共13条，第1-10条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 面向工程应用的自由曲面离轴反射成像系统设计 学位论文  OAI收割 北京: 中国科学院大学, 2024 作者:  宁默   |  收藏  |  浏览/下载：6/0  |  提交时间：2024/07/04 自由曲面  离轴反射系统  紧凑型  可制造性  可检测性   基于数字样机技术的电装工艺优化 期刊论文  OAI收割 电子工艺技术, 2018, 期号: 04, 页码: 215-217+227 作者:  聂磊;  石宝松;  付柯楠   |  收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2019/09/17 电子设备  数字样机  工艺优化  可制造性   制导弹药智能总装生产线研制与推广应用 期刊论文  OAI收割 自动化博览, 2016, 期号: 5, 页码: 72-73,75 作者:  中国科学院沈阳自动化研究所 收藏  |  浏览/下载：45/0  |  提交时间：2016/08/14 智能制造  行业传统  共性技术  生产效率  质量参数  制造模式  在线自动检测  自动化生产  可重构性  工艺装备   超深亚微米工艺条件下基于模型的光学邻近效应修正方法的研究 学位论文  OAI收割 博士, 上海微系统与信息技术研究所: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所, 2009 朱亮 收藏  |  浏览/下载：149/0  |  提交时间：2012/03/06 分辨率增强技术  光学邻近效应修正  可制造性设计  亚分辨率辅助图形  光学和工艺邻近效应修正   超深亚微米工艺条件下基于模型的光学临近效应修正方法的研究 学位论文  OAI收割 博士: 中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所）  , 2009 朱亮 收藏  |  浏览/下载：46/0  |  提交时间：2012/03/06 分辨率增强技术  　光学邻近效应修正  　可制造性设计  　亚分辨率辅助图形  　光学和工艺邻近效应修正　   基于精简标准单元库的OPC复用技术 期刊论文  OAI收割 半导体学报, 2008, 卷号: 29, 期号: 5, 页码: 6，1016-1021 作者:  杨清华;  焦海龙;  陈岚;  李志刚;  叶甜春   |  收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2010/05/27 精简标准单元库  Opc复用  可制造性设计  电气仿真   标准单元可制造性分级 期刊论文  OAI收割 现代电子技术, 2008, 卷号: 31, 期号: 24, 页码: 3，34-36 作者:  张子文;  龚敏;  陈岚   |  收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2010/05/27 可制造性 标准单元  权重  光刻模拟   可制造性设计在纳米SOC中的应用和发展 期刊论文  OAI收割 微纳电子技术, 2007, 卷号: 44, 期号: 6, 页码: 7,282_288 作者:  刘明;  赵珉;  杨清华;  陈宝钦   |  收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2010/05/26 可制造性设计   LED显示屏行业标准及贯标检测情况简述 期刊论文  OAI收割 液晶与显示, 2007, 期号: 06 陆荣庆 收藏  |  浏览/下载：22/0  |  提交时间：2012/01/06 光学临近效应修正  可制造性设计  扩散光学影像模型  边缘位置误差  化学放大光刻胶  掩膜误差因子   基于子结构模型的音叉振动式微机械陀螺的检测电容解析方法 期刊论文  OAI收割 机械工程学报, 2006, 期号: 09 刘广军; 王安麟; 姜涛; 焦继伟; 张正福 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2012/01/06 可制造性设计  光刻规则检查  光学邻近效应修正  设计规则  制程窗口