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Temperature environmental adaptability on electrical and stress properties of Ge film in space
期刊论文
OAI收割
Journal of Materials Research and Technology, 2021, 卷号: 15, 页码: 6670-6677
作者:
Li YP(李云鹏)
;
Chen B(陈波)
;
Dai XJ(代雪晶)
;
Yang HC(杨洪臣)
;
Wang HP(王华朋)
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提交时间:2021/12/20
Ge film
Temperature adaptability
Resistance
Residual stress
In-situ
Ex-situ
Selective Wet-etching of Ge2Sb2Te5 Phase-change Thin Films in Thermal Lithography with Tetramethylammonium
期刊论文
OAI收割
applied physics a: materials science &processing, 2011, 期号: 104, 页码: 1091-1097
Deng CM(邓常猛)
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浏览/下载:26/0
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提交时间:2012/04/24
Ge2Sb2Te5 film
selective wet etching
tetramethylammonium
thermal lithography
Interfacial structure of V(2)AlC thin films deposited on (11(2)over-bar0)-sapphire
期刊论文
OAI收割
Scripta Materialia, 2011, 卷号: 64, 期号: 4, 页码: 347-350
D. P. Sigumonrong
;
J. Zhang
;
Y. C. Zhou
;
D. Music
;
J. Emmerlich
;
J. Mayer
;
J. M. Schneider
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2012/04/13
MAX-phase thin film
TEM
Epitaxial growth
Ab initio calculation
ti-al-c
electronic-structure
m(n+1)ax(n) phases
ge
gas
How thick SiO(2) cap layer is needed to achieve strong visible photoluminescence from SiO(2)-buffered SiN(x) films?
期刊论文
OAI收割
Physica E-Low-Dimensional Systems & Nanostructures, 2010, 卷号: 42, 期号: 8, 页码: 2016-2020
M. Xu
;
Q. Y. Chen
;
S. Xu
;
K. Ostrikov
;
Y. Wei
;
Y. C. Ee
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浏览/下载:21/0
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提交时间:2012/04/13
SiNx film
SiO(2)
Annealing
Photoluminescence
silicon oxynitride
si0.7ge0.3 layers
defect spectrum
nanostructures
luminescence
morphology
devices
origin
growth
Acid and Surfactant Effect on Chemical Mechanical Polishing of Ge2Sb2Te5
期刊论文
OAI收割
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2009, 卷号: 156, 期号: 9, 页码: H699-H702
Wang, LY
;
Liu, B
;
Song, ZT
;
Feng, SL
;
Xiang, YH
;
Zhang, FX
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浏览/下载:15/0
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提交时间:2012/03/24
NITROGEN-DOPED GE2SB2TE5
FILM
MEMORY
GLASS
Promoting strain relaxation of si0.72ge0.28 film on si (100) substrate by inserting a low-temperature ge islands layer in uhvcvd
期刊论文
iSwitch采集
Applied surface science, 2008, 卷号: 255, 期号: 5, 页码: 2660-2664
作者:
Zhou, Zhiwen
;
Cai, Zhimeng
;
Li, Cheng
;
Lai, Hongkai
;
Chen, Songyan
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提交时间:2019/05/12
Relaxed buffer
Sige film
Lt-ge layer
Strain relaxation
Uhvcvd
Germanium nitride interfacial layer for chalcogenide random access memory applications
期刊论文
OAI收割
APPLIED PHYSICS EXPRESS, 2008, 卷号: 1, 期号: 1, 页码: 11201-11201
Shen, J
;
Liu, B
;
Song, Z
;
Xu, C
;
Rao, F
;
Liang, S
;
Feng, S
;
Chen, B
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浏览/下载:18/0
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提交时间:2012/03/24
CHANGE OPTICAL DISK
PHASE-CHANGE MEMORY
GE2SB2TE5 FILM
HIGH-DENSITY
DEVICE
The microstructure investigation of GeTi thin film used for non-volatile memory
期刊论文
OAI收割
APPLIED SURFACE SCIENCE, 2008, 卷号: 254, 期号: 15, 页码: 4638-4643
Shen, J
;
Liu, B
;
Song, ZT
;
Xu, C
;
Liang, S
;
Feng, SL
;
Chen, BM
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浏览/下载:19/0
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提交时间:2012/03/24
RANDOM-ACCESS MEMORY
PHASE-CHANGE
NEGATIVE RESISTANCE
SWITCHING PHENOMENA
GE2SB2TE5 FILM
OXIDE-FILMS
GLASSES
TRANSITION
Switching characteristics of phase change memory cell integrated with metal-oxide semiconductor field effect transistor
期刊论文
OAI收割
CHINESE PHYSICS LETTERS, 2008, 卷号: 25, 期号: 5, 页码: 1848-1849
Xu, C
;
Liu, B
;
Chen, YF
;
Liang, S
;
Song, ZT
;
Feng, SL
;
Wan, XD
;
Yang, ZY
;
Xie, J
;
Chen, B
收藏
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浏览/下载:21/0
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提交时间:2012/03/24
GE2SB2TE5 FILM
激光辐照引起Ge2Sb2Te5非晶态薄膜的电/光性质变化
期刊论文
OAI收割
无机材料学报, 2008, 卷号: 23, 期号: 6, 页码: 1111, 1114
孙华军
;
侯立松
;
吴谊群
;
魏劲松
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浏览/下载:1703/417
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提交时间:2009/09/22
Ge2Sb2Te5薄膜
Ge2Sb2Te5 film
激光辐照
laser-irradiation
电/光性质
electrical/optical properties
光学常数
optical constants
相转变
phase change