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机构
西安光学精密机械研究... [8]
采集方式
OAI收割 [8]
内容类型
专利 [8]
发表日期
2004 [2]
2001 [1]
2000 [2]
1999 [3]
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共8条,第1-8条
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半導体レーザ素子
专利
OAI收割
专利号: JP2004179209A, 申请日期: 2004-06-24, 公开日期: 2004-06-24
作者:
日野 智公
;
成井 啓修
;
御友 重吾
;
岡野 展賢
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提交时间:2020/01/13
窒化物系III-V族化合物半導体の成長方法および半導体発光素子の製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP3543628B2, 申请日期: 2004-04-16, 公开日期: 2004-07-14
作者:
冨岡 聡
;
成井 啓修
;
岡野 展賢
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提交时间:2019/12/26
半導体発光装置の製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP2001244573A, 申请日期: 2001-09-07, 公开日期: 2001-09-07
作者:
御友 重吾
;
岡野 展賢
;
成井 啓修
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提交时间:2020/01/13
化合物半導体素子
专利
OAI收割
专利号: JP2000133882A, 申请日期: 2000-05-12, 公开日期: 2000-05-12
作者:
成井 啓修
;
岡野 展賢
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提交时间:2020/01/13
半導体発光素子
专利
OAI收割
专利号: JP2000114665A, 申请日期: 2000-04-21, 公开日期: 2000-04-21
作者:
成井 啓修
;
岡野 展賢
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提交时间:2020/01/18
半導体発光素子およびその製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP1999354888A, 申请日期: 1999-12-24, 公开日期: 1999-12-24
作者:
成井 啓修
;
谷口 健博
;
植野 紀子
;
岡野 展賢
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提交时间:2020/01/13
半導体装置、半導体レーザ等の製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP1999330611A, 申请日期: 1999-11-30, 公开日期: 1999-11-30
作者:
植野 紀子
;
田口 歩
;
成井 啓修
;
岡野 展賢
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提交时间:2019/12/31
化合物半導体層の成長方法および半導体装置の製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP1999330616A, 申请日期: 1999-11-30, 公开日期: 1999-11-30
作者:
岡野 展賢
;
成井 啓修
;
田口 歩
;
植野 紀子
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提交时间:2019/12/31