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机构
西安光学精密机械研... [16]
采集方式
OAI收割 [16]
内容类型
专利 [16]
发表日期
2003 [1]
2000 [1]
1999 [3]
1997 [3]
1996 [2]
1995 [1]
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半導体層のキャリア濃度の設定方法及び半導体レーザのキャリア濃度の設定方法
专利
OAI收割
专利号: JP3490923B2, 申请日期: 2003-11-07, 公开日期: 2004-01-26
作者:
本多 正治
;
浜田 弘喜
;
庄野 昌幸
;
▲廣▼山 良治
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提交时间:2019/12/24
半導体レーザ
专利
OAI收割
专利号: JP3075728B2, 申请日期: 2000-06-09, 公开日期: 2000-08-14
作者:
本多 正治
;
浜田 弘喜
;
庄野 昌幸
;
廣山 良治
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提交时间:2020/01/18
半導体レーザ
专利
OAI收割
专利号: JP2951053B2, 申请日期: 1999-07-09, 公开日期: 1999-09-20
作者:
浜田 弘喜
;
庄野 昌幸
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提交时间:2020/01/13
半導体レーザの製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP2919606B2, 申请日期: 1999-04-23, 公开日期: 1999-07-12
作者:
廣山 良治
;
浜田 弘喜
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提交时间:2019/12/23
半導体レーザ
专利
OAI收割
专利号: JP2889645B2, 申请日期: 1999-02-19, 公开日期: 1999-05-10
作者:
浜田 弘喜
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提交时间:2020/01/18
半導体レーザ
专利
OAI收割
专利号: JP2708784B2, 申请日期: 1997-10-17, 公开日期: 1998-02-04
作者:
浜田 弘喜
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提交时间:2020/01/13
半導体レーザの製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP2664389B2, 申请日期: 1997-06-20, 公开日期: 1997-10-15
作者:
浜田 弘喜
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提交时间:2020/01/13
半導体レーザ
专利
OAI收割
专利号: JP2630929B2, 申请日期: 1997-04-25, 公开日期: 1997-07-16
作者:
浜田 弘喜
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提交时间:2020/01/13
可視光半導体発光装置とその製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP1996228041A, 申请日期: 1996-09-03, 公开日期: 1996-09-03
作者:
浜田 弘喜
;
本多 正治
;
庄野 昌幸
;
山口 隆夫
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提交时间:2019/12/31
可視光半導体発光装置とその製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP1996228050A, 申请日期: 1996-09-03, 公开日期: 1996-09-03
作者:
浜田 弘喜
;
本多 正治
;
庄野 昌幸
;
山口 隆夫
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提交时间:2020/01/18