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机构
西安光学精密机械研究... [9]
采集方式
OAI收割 [9]
内容类型
专利 [9]
发表日期
2005 [1]
2000 [2]
1999 [1]
1998 [1]
1996 [1]
1995 [3]
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半導体レーザ
专利
OAI收割
专利号: JP3718952B2, 申请日期: 2005-09-16, 公开日期: 2005-11-24
作者:
門脇 朋子
;
木村 達也
;
多田 仁史
;
藤原 正敏
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提交时间:2020/01/18
半導体素子および製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP2000151021A, 申请日期: 2000-05-30, 公开日期: 2000-05-30
作者:
藤原 正敏
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提交时间:2020/01/18
半導体素子およびその製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP2000091313A, 申请日期: 2000-03-31, 公开日期: 2000-03-31
作者:
藤原 正敏
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提交时间:2020/01/18
半導体レーザの製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP1999004041A, 申请日期: 1999-01-06, 公开日期: 1999-01-06
作者:
藤原 正敏
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提交时间:2020/01/18
活性層吸収型パルセーション半導体レーザダイオードとその製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP1998256652A, 申请日期: 1998-09-25, 公开日期: 1998-09-25
作者:
藤原 正敏
;
門脇 朋子
;
柴田 公隆
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提交时间:2019/12/31
半導体レーザおよびその製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP1996008394B2, 申请日期: 1996-01-29, 公开日期: 1996-01-29
作者:
武本 彰
;
渡辺 斉
;
藤原 正敏
;
柿本 昇一
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提交时间:2020/01/18
半導体レーザ装置
专利
OAI收割
专利号: JP1995176820A, 申请日期: 1995-07-14, 公开日期: 1995-07-14
作者:
鴫原 君男
;
藤原 正敏
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提交时间:2020/01/13
分布帰還型半導体レーザ
专利
OAI收割
专利号: JP1995045907A, 申请日期: 1995-02-14, 公开日期: 1995-02-14
作者:
藤原 正敏
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提交时间:2020/01/13
半導体レーザの製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP1995003909B2, 申请日期: 1995-01-18, 公开日期: 1995-01-18
作者:
藤原 正敏
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提交时间:2020/01/13