中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
首页
机构
成果
学者
登录
注册
登陆
×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
×
校外用户登录
CAS IR Grid
机构
微电子研究所 [15]
南京地理与湖泊研究所 [3]
昆明动物研究所 [3]
生态环境研究中心 [2]
地理科学与资源研究所 [1]
高能物理研究所 [1]
更多
采集方式
OAI收割 [25]
内容类型
期刊论文 [19]
专利 [4]
会议论文 [2]
发表日期
2023 [1]
2022 [1]
2018 [3]
2017 [5]
2016 [2]
2015 [2]
更多
学科主题
筛选
浏览/检索结果:
共25条,第1-10条
帮助
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
题名升序
题名降序
提交时间升序
提交时间降序
作者升序
作者降序
发表日期升序
发表日期降序
Quantifying the effects of nonlinear trends of meteorological factors on drought dynamics
期刊论文
OAI收割
NATURAL HAZARDS, 2023, 页码: 22
作者:
Guo, Wenwen
;
Huang, Shengzhi
;
Zhao, Yong
;
Leng, Guoyong
;
Zhao, Xianggui
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:23/0
  |  
提交时间:2023/10/09
Drought
SPEI
Nonlinear trend
Loess Plateau
Climate change
Insights into the Superstable Mineralization of Chromium(III) from Wastewater by CuO
期刊论文
OAI收割
ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES, 2022, 卷号: 14, 期号: 33, 页码: 37823-37832
作者:
Li, Jiaxin
;
Shen, Tianyang
;
Wang, Huijuan
;
Li, Shaoquan
;
Wang, Jikang
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:12/0
  |  
提交时间:2023/11/09
半导体器件及其制造方法
专利
OAI收割
专利号: CN201410398357.X, 申请日期: 2018-12-11, 公开日期: 2016-03-30
作者:
王桂磊
;
崔虎山
;
殷华湘
;
李俊峰
;
朱慧珑
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:69/0
  |  
提交时间:2019/03/26
半导体器件制造方法
专利
OAI收割
专利号: CN201210497474.2, 申请日期: 2018-11-06, 公开日期: 2014-06-11
作者:
秦长亮
;
王桂磊
;
洪培真
;
尹海洲
;
殷华湘
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:42/0
  |  
提交时间:2019/03/26
Novel GAA Si Nanowire p-MOSFETs With Excellent Short-Channel Effect Immunity via an Advanced Forming Process
期刊论文
OAI收割
IEEE Electron Device Letters, 2018
作者:
Zhang QZ(张青竹)
;
Yin HX(殷华湘)
;
Meng LK(孟令款)
;
Yao JX(姚佳欣)
;
Li JJ(李俊杰)
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:30/0
  |  
提交时间:2019/05/05
半导体器件制造方法
专利
OAI收割
专利号: CN201210495187.8, 申请日期: 2017-11-21, 公开日期: 2014-06-11
作者:
殷华湘
;
洪培真
;
秦长亮
;
尹海洲
;
王桂磊
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:29/0
  |  
提交时间:2018/04/25
Study of sigma-shaped source/drain recesses for embedded-SiGe pMOSFETs
期刊论文
OAI收割
Microelectronic Engineering, 2017
作者:
Zhu HL(朱慧珑)
;
Xu QX(徐秋霞)
;
Li JF(李俊峰)
;
Zhao C(赵超)
;
Henry Homayoun Radamson
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:54/0
  |  
提交时间:2018/07/09
pMOSFETs Featuring ALD W Filling Metal Using SiH4 and B2H6 Precursors in 22 nm Node CMOS Technology
期刊论文
OAI收割
Nanoscale Research Letters, 2017
作者:
Zhao C(赵超)
;
Wang GL(王桂磊)
;
Luo J(罗军)
;
Liu JB(刘金彪)
;
Yang T(杨涛)
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:16/0
  |  
提交时间:2018/07/05
Integration of Highly Strained SiGe in Source and Drain with HK and MG for 22 nm Bulk PMOS Transistors
期刊论文
OAI收割
Nanoscale Research Letters, 2017
作者:
Wang GL(王桂磊)
;
Ye TC(叶甜春)
;
Henry Homayoun Radamson
;
Zhao C(赵超)
;
Zhu HL(朱慧珑)
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:13/0
  |  
提交时间:2018/07/05
Optimization of Selective Growth of SiGe for Source/Drain in 14nm and Beyond Nodes FinFETs
期刊论文
OAI收割
International Journal of High Speed Electronics and Systems, 2017
作者:
Henry Homayoun Radamson
;
Zhu HL(朱慧珑)
;
Yin HX(殷华湘)
;
Qin ZL(秦长亮)
;
Luo J(罗军)
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:18/0
  |  
提交时间:2018/07/05