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Si基高迁移率InGaAs沟道MOSFET器件研究
学位论文
OAI收割
博士, 北京: 中国科学院研究生院, 2017
孔祥挺
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浏览/下载:31/0
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提交时间:2017/06/05
InGaAs沟道
高迁移率
MOSFET
Ge/Si衬底
Si基溅射法AlN缓冲层薄膜制备研究
学位论文
OAI收割
硕士, 北京: 中国科学院研究生院, 2016
张硕
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浏览/下载:15/0
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提交时间:2016/06/12
AlN
溅射法
Si(100)衬底
氧污染
椭偏测量
硅衬底氮化镓材料制备生长研究
学位论文
OAI收割
博士, 北京: 中国科学院大学, 2015
冯玉霞
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浏览/下载:21/0
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提交时间:2015/06/02
Si衬底
AlN
GaN
生长机制
应力
SiC缓冲层对Si表面生长的ZnO薄膜结构和光电性能的改善
期刊论文
OAI收割
发光学报, 2009, 卷号: 030
作者:
康朝阳
;
赵朝阳
;
刘峥嵘
;
孙柏
;
唐军
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浏览/下载:44/0
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提交时间:2020/11/25
ZnO薄膜
Si(111)衬底
SiC缓冲层
光电性能
在Si和Ge衬底上用分子束外延生长HgCdTe
期刊论文
OAI收割
红外, 2005, 卷号: 26, 期号: 9, 页码: 29-24
作者:
傅祥良
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浏览/下载:27/0
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提交时间:2011/11/14
分子束外延
Si衬底
Ge衬底
Cdte
Hgcdte
晶向
晶格失配
在ZnO/Si衬底上ZnCdSe/ZnSe多量子阱的生长与光学特性
期刊论文
OAI收割
中国激光, 2004, 期号: 03, 页码: 297-300
作者:
张振中
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提交时间:2013/03/11
薄膜物理学
Si衬底
ZnCdSe/ZnSe量子阱
低压金属有机化学气相淀积
Si衬底的氮化处理对ZnO薄膜质量的影响
期刊论文
OAI收割
光电子·激光, 2003, 期号: 08, 页码: 783-786
作者:
申德振
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提交时间:2013/03/11
ZnO
Si衬底
氮化
等离子增强化学气相沉积(PECVD)
ZnO-Si不同退火条件对生长ZnSe薄膜的影响
期刊论文
OAI收割
发光学报, 2003, 期号: 01, 页码: 61-65
作者:
申德振
;
张振中
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浏览/下载:26/0
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提交时间:2013/03/11
硒化锌薄膜
Si衬底
ZnO缓冲层
LP-MOCVD
SiGe-On-Insulator新结构的SIMOX制备
会议论文
OAI收割
第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会, 2003
安正华
;
刘卫丽
;
张苗
;
林成鲁
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提交时间:2012/01/18
SIMOX制备 化学气相淀积 Si衬底 退火工艺 SiGeOI结构
Si衬底上ZnSe外延膜的低压MOCVD生长
期刊论文
OAI收割
发光学报, 2002, 期号: 04, 页码: 330-334
作者:
申德振
;
张振中
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提交时间:2013/03/11
ZnSe外延膜
Si衬底
低压MOCVD