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上海微系统与信息技... [14]
物理研究所 [4]
半导体研究所 [1]
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OAI收割 [19]
内容类型
期刊论文 [17]
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发表日期
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Hole Mobilities of Si/Si0.5Ge0.5 Quantum-Well Transistor on SOI and Strained SOI
期刊论文
OAI收割
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS, 2012, 卷号: 33, 期号: 6, 页码: 758-760
Yu, W
;
Zhang, B
;
Zhao, QT
;
Buca, D
;
Hartmann, JM
;
Luptak, R
;
Mussler, G
;
Fox, A
;
Bourdelle, KK
;
Wang, X
;
Mantl, S
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提交时间:2013/04/17
Hole mobility
quantum well (QW)
SiGe
strained Si (sSi)
Tunneling field-effect transistor with a strained Si channel and a Si0.5Ge0.5 source
期刊论文
OAI收割
SOLID-STATE ELECTRONICS, 2012, 卷号: 74, 页码: 97-101
Zhao, QT
;
Yu, WJ
;
Zhang, B
;
Schmidt, M
;
Richter, S
;
Buca, D
;
Hartmann, JM
;
Luptak, R
;
Fox, A
;
Bourdelle, KK
;
Mantl, S
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浏览/下载:15/0
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提交时间:2013/04/17
Tunnel FET
Strained Si
Subthreshold swing
SiGe
低温等离子体键合与新型高速衬底材料制备
学位论文
OAI收割
博士: 中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所) , 2010
马小波
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提交时间:2012/03/06
低温等离子体键合
绝缘体上的硅(SOI)
绝缘体上锗硅(SGOI)
绝 缘体上的锗(GeOI)
应变硅(strained Si)
Fabrication of high Ge content SiGe-on-insulator with low dislocation density by modified Ge condensation
期刊论文
OAI收割
APPLIED SURFACE SCIENCE, 2009, 卷号: 255, 期号: 17, 页码: 7743-7748
Ma, XB
;
Liu, WL
;
Chen, C
;
Du, XF
;
Liu, XY
;
Song, ZT
;
Lin, CL
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提交时间:2012/03/24
STRAINED SI
MOBILITY
DEVICES
LAYERS
Thermal annealing effects on the structure and electrical properties of Al2O3 gate dielectrics on fully depleted SiGe on insulator
期刊论文
OAI收割
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2006, 卷号: 24, 期号: 3, 页码: 1151-1155
Di, ZF
;
Zhang, M
;
Liu, WL
;
Shen, QW
;
Luo, SH
;
Song, ZT
;
Lin, CL
;
Chu, PK
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提交时间:2012/03/24
RAY PHOTOELECTRON-SPECTROSCOPY
ATOMIC-LAYER DEPOSITION
INTERFACIAL CHARACTERISTICS
STRAINED-SI
THIN-FILMS
ULTRATHIN
SILICON
HETEROSTRUCTURE
OXIDATION
CHANNEL
Interfacial characteristics of fully depleted SiGe-on-insulator (SGOI) substrate fabricated by modified Ge condensation
期刊论文
OAI收割
SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY, 2005, 卷号: 20, 期号: 8, 页码: L31-L35
Di, ZF
;
Zhang, M
;
Liu, WL
;
Luo, SH
;
Song, ZT
;
Lin, CL
;
Lin, Q
;
Chu, PK
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提交时间:2012/03/24
ELECTRON-MOBILITY ENHANCEMENT
STRAINED-SI
DIFFUSION
OXIDATION
GERMANIUM
SILICON
ALLOYS
Fabrication of SGOI material by oxidation of an epitaxial SiGe layer on an SOI wafer with H ions implantation
期刊论文
OAI收割
NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2005, 卷号: 234, 期号: 3, 页码: 243-248
Cheng,XL
;
Chen,ZJ
;
Wang,YJ
;
Jin,B
;
Zhang,F
;
Zou,SC
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提交时间:2012/03/24
HOLE MOBILITY ENHANCEMENT
HIGH-GE FRACTION
STRAINED-SI
INSULATOR SUBSTRATE
N-MOSFETS
ELECTRON
ULTRATHIN
Germanium movement mechanism in SiGe-on-insulator fabricated by modified Ge condensation
期刊论文
OAI收割
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2005, 卷号: 97, 期号: 6, 页码: 64504-64504
Di, ZF
;
Chu, PK
;
Zhang, M
;
Liu, WL
;
Song, ZT
;
Lin, CL
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提交时间:2012/03/24
FIELD-EFFECT TRANSISTORS
STRAINED-SI
MOBILITY ENHANCEMENT
OXIDATION
ELECTRON
Relaxed SiGe-on-insulator fabricated by dry oxidation of sandwiched Si/SiGe/Si structure
期刊论文
OAI收割
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY, 2005, 卷号: 124, 页码: 153-157
Di, ZF
;
Zhang, M
;
Liu, WL
;
Zhu, M
;
Lin, CL
;
Chu, PK
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浏览/下载:18/0
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提交时间:2012/03/24
ELECTRON-MOBILITY ENHANCEMENT
FIELD-EFFECT TRANSISTORS
STRAINED-SI
LAYER TRANSFER
N-MOSFETS
GERMANIUM
STABILITY
SUBSTRATE
EPITAXY
ALLOYS
Fabrication and mechanism of relaxed SiGe-on-insulator by modified Ge condensation
期刊论文
OAI收割
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2005, 卷号: 23, 期号: 4, 页码: 1637-1640
Di, ZF
;
Zhang, M
;
Liu, WL
;
Luo, SH
;
Song, ZT
;
Lin, CL
;
Huang, AP
;
Chu, PK
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浏览/下载:22/0
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提交时间:2012/03/24
HOLE MOBILITY ENHANCEMENT
STRAINED-SI
OXIDATION BEHAVIOR
HIGH-PERFORMANCE
COMPLIANT OXIDE
N-MOSFETS
GERMANIUM
SUBSTRATE
ELECTRON
ISLANDS