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机构
西安光学精密机械研... [12]
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OAI收割 [12]
内容类型
专利 [12]
发表日期
2008 [1]
2002 [2]
2001 [3]
2000 [1]
1998 [2]
1997 [1]
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光学模块
专利
OAI收割
专利号: CN101286619A, 申请日期: 2008-10-15, 公开日期: 2008-10-15
作者:
金子太郎
;
仁道正明
;
富田功
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提交时间:2020/01/13
窒化ガリウム系半導体のp型電極およびその形成方法
专利
OAI收割
专利号: JP3299145B2, 申请日期: 2002-04-19, 公开日期: 2002-07-08
作者:
久永 幸博
;
仁道 正明
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提交时间:2019/12/24
氮化物半导体激光器
专利
OAI收割
专利号: CN1340891A, 申请日期: 2002-03-20, 公开日期: 2002-03-20
作者:
山口敦史
;
仓本大
;
仁道正明
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提交时间:2020/01/18
p型ドーパント材料拡散防止層付き窒化ガリウム系発光素子
专利
OAI收割
专利号: JP3217004B2, 申请日期: 2001-08-03, 公开日期: 2001-10-09
作者:
木村 明隆
;
笹岡 千秋
;
仁道 正明
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提交时间:2019/12/26
窒化ガリウム系半導体発光素子及びその製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP3206555B2, 申请日期: 2001-07-06, 公开日期: 2001-09-10
作者:
仁道 正明
;
木村 明隆
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提交时间:2019/12/26
窒化物系化合物半導体およびその結晶成長方法および窒化ガリウム系発光素子
专利
OAI收割
专利号: JP3147821B2, 申请日期: 2001-01-12, 公开日期: 2001-03-19
作者:
木村 明隆
;
砂川 晴夫
;
仁道 正明
;
笹岡 千秋
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提交时间:2019/12/26
選択成長法を用いた窒化ガリウム系半導体レーザの製造方法及び窒化ガリウム系半導体レーザ
专利
OAI收割
专利号: JP3060973B2, 申请日期: 2000-04-28, 公开日期: 2000-07-10
作者:
木村 明隆
;
仁道 正明
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提交时间:2019/12/24
窒化物系化合物半導体の結晶成長方法および窒化ガリウム系発光素子
专利
OAI收割
专利号: JP1998341060A, 申请日期: 1998-12-22, 公开日期: 1998-12-22
作者:
木村 明隆
;
笹岡 千秋
;
山口 敦史
;
仁道 正明
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提交时间:2020/01/18
窒化ガリウム系半導体レーザ
专利
OAI收割
专利号: JP1998200213A, 申请日期: 1998-07-31, 公开日期: 1998-07-31
作者:
仁道 正明
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提交时间:2019/12/30
窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
专利
OAI收割
专利号: JP1997008412A, 申请日期: 1997-01-10, 公开日期: 1997-01-10
作者:
仁道 正明
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提交时间:2020/01/13