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西安光学精密机械研... [22]
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OAI收割 [22]
内容类型
专利 [22]
发表日期
2007 [1]
2005 [1]
2002 [1]
2001 [3]
2000 [2]
1999 [5]
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半導体素子及び半導体素子の製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP3905935B2, 申请日期: 2007-01-19, 公开日期: 2007-04-18
作者:
板谷 和彦
;
山本 雅裕
;
小野村 正明
;
藤本 英俊
;
波多腰 玄一
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提交时间:2019/12/26
窒化ガリウム系化合物半導体レーザ及びその製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP3655066B2, 申请日期: 2005-03-11, 公开日期: 2005-06-02
作者:
小野村 正明
;
波多腰 玄一
;
板谷 和彦
;
吉田 博昭
;
鈴木 真理子
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提交时间:2019/12/24
発光ダイオード
专利
OAI收割
专利号: JP3373561B2, 申请日期: 2002-11-22, 公开日期: 2003-02-04
作者:
菅原 秀人
;
板谷 和彦
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提交时间:2019/12/26
半導体発光素子
专利
OAI收割
专利号: JP3242967B2, 申请日期: 2001-10-19, 公开日期: 2001-12-25
作者:
板谷 和彦
;
新田 康一
;
波多腰 玄一
;
西川 幸江
;
菅原 秀人
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提交时间:2020/01/18
半導体レーザ装置
专利
OAI收割
专利号: JP3237870B2, 申请日期: 2001-10-05, 公开日期: 2001-12-10
作者:
板谷 和彦
;
波多腰 玄一
;
新田 康一
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提交时间:2020/01/18
半導体レーザ装置
专利
OAI收割
专利号: JP3144821B2, 申请日期: 2001-01-05, 公开日期: 2001-03-12
作者:
新田 康一
;
石川 正行
;
岡島 正季
;
板谷 和彦
;
波多腰 玄一
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提交时间:2020/01/18
窒化物系半導体レーザ装置およびその製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP2000223779A, 申请日期: 2000-08-11, 公开日期: 2000-08-11
作者:
板谷 和彦
;
布上 真也
;
波多腰 玄一
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提交时间:2020/01/18
化合物半導体レーザおよびその製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP2000183466A, 申请日期: 2000-06-30, 公开日期: 2000-06-30
作者:
藤本 英俊
;
板谷 和彦
;
西尾 譲司
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提交时间:2020/01/18
半導体レーザ装置
专利
OAI收割
专利号: JP2997573B2, 申请日期: 1999-10-29, 公开日期: 2000-01-11
作者:
西川 幸江
;
新田 康一
;
岡島 正季
;
渡邊 実
;
板谷 和彦
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提交时间:2020/01/13
化合物半導体レーザ装置
专利
OAI收割
专利号: JP1999186650A, 申请日期: 1999-07-09, 公开日期: 1999-07-09
作者:
板谷 和彦
;
布上 真也
;
石川 正行
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提交时间:2019/12/31