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西安光学精密机械研... [37]
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OAI收割 [37]
内容类型
专利 [37]
发表日期
2008 [1]
2006 [1]
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半導体レーザ素子及び製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP2008311547A, 申请日期: 2008-12-25, 公开日期: 2008-12-25
作者:
加藤 亮
;
山田 篤志
;
杉浦 勝己
;
石橋 明彦
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提交时间:2019/12/31
半導体発光素子
专利
OAI收割
专利号: JP3792003B2, 申请日期: 2006-04-14, 公开日期: 2006-06-28
作者:
上村 信行
;
長谷川 義晃
;
石橋 明彦
;
原 義博
;
木戸口 勲
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提交时间:2020/01/18
半導体レーザの製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP2003046177A, 申请日期: 2003-02-14, 公开日期: 2003-02-14
作者:
矢島 浩義
;
山中 圭一郎
;
加藤 真
;
石橋 明彦
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提交时间:2020/01/13
半導体発光素子、その製造方法及び光ディスク装置
专利
OAI收割
专利号: JP2003037338A, 申请日期: 2003-02-07, 公开日期: 2003-02-07
作者:
辻村 歩
;
長谷川 義晃
;
石橋 明彦
;
木戸口 勲
;
鈴木 政勝
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提交时间:2019/12/31
窒化物系半導体素子及び製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP2003017790A, 申请日期: 2003-01-17, 公开日期: 2003-01-17
作者:
石橋 明彦
;
川口 靖利
;
大塚 信之
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提交时间:2019/12/31
窒化ガリウム系半導体の製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP3353527B2, 申请日期: 2002-09-27, 公开日期: 2002-12-03
作者:
石橋 明彦
;
萬濃 正也
;
大仲 清司
;
武石 英見
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提交时间:2019/12/24
結晶成長方法および半導体発光素子
专利
OAI收割
专利号: JP3269344B2, 申请日期: 2002-01-18, 公开日期: 2002-03-25
作者:
石橋 明彦
;
伴 雄三郎
;
武石 英見
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提交时间:2019/12/26
半導体発光素子及び半導体発光装置
专利
OAI收割
专利号: JP3252779B2, 申请日期: 2001-11-22, 公开日期: 2002-02-04
作者:
上山 智
;
鈴木 政勝
;
上野山 雄
;
大仲 清司
;
高森 晃
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提交时间:2019/12/26
半導体レーザの製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP3206160B2, 申请日期: 2001-07-06, 公开日期: 2001-09-04
作者:
石橋 明彦
;
木戸口 勲
;
大仲 清司
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提交时间:2020/01/13
半導体発光装置の製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP2001007443A, 申请日期: 2001-01-12, 公开日期: 2001-01-12
作者:
長谷川 義晃
;
辻村 歩
;
石橋 明彦
;
木戸口 勲
;
粂 雅博
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提交时间:2020/01/13