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OAI收割 [16]
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期刊论文 [14]
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发表日期
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2008 [1]
2005 [2]
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同步辐射光刻 [1]
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EN-1固化剂对土壤抗蚀性的影响
期刊论文
OAI收割
水土保持学报, 2010, 期号: 5, 页码: 6-9
单志杰
;
张兴昌
;
赵伟霞
;
陈志刚
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浏览/下载:35/0
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提交时间:2011/12/08
EN-1固化剂
土壤结构
土壤抗蚀性
应用于纳米制造的新型电子束抗蚀剂Calixarene的工艺研究
期刊论文
OAI收割
纳米技术与精密工程, 2009, 卷号: 7, 期号: 3, 页码: 4,275-278
作者:
谢常青
;
安南
;
刘明
;
陈宝钦
;
任黎明
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浏览/下载:24/0
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提交时间:2010/06/01
纳米制造
电子束光刻
工艺技术
电子束抗蚀剂
Calixarene
HSQ用于电子束曝光的性能分析
期刊论文
OAI收割
微细加工技术, 2008, 期号: 4, 页码: 4,10-13
作者:
赵珉
;
陈宝钦
;
刘明
;
谢常青
;
朱效立
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提交时间:2010/05/27
Hsq(hydrogen Silsesquioxane)
电子束曝光技术
抗蚀剂工艺
邻近效应
一种基于元胞自动机的显影模型
期刊论文
OAI收割
微电子学与计算机, 2005, 卷号: 22, 期号: 3, 页码: 4,277-280
作者:
刘明
;
李泠
;
龙世兵
;
陈宝钦
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提交时间:2010/05/26
电子抗蚀剂
显影
元胞自动机
Zep520
计算机模拟
ZEP520正性电子抗蚀剂的工艺研究
期刊论文
OAI收割
微细加工技术, 2005, 期号: 1, 页码: 7,6-11,16
作者:
赵新为
;
龙世兵
;
李志刚
;
陈宝钦
;
刘明
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提交时间:2010/05/26
Zep520抗蚀剂
SAL601负性电子束抗蚀剂纳米级集成电路加工
期刊论文
OAI收割
微纳电子技术, 2003, 卷号: 40, 期号: 7, 页码: 3,167-169
作者:
徐秋霞
;
王云翔
;
刘明
;
陈宝钦
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提交时间:2010/05/25
Sal601
负性电子束
抗蚀剂
纳米级集成电路
曝光
电子束曝光UV3正性抗蚀剂的工艺研究
期刊论文
OAI收割
微电子学, 2003, 卷号: 33, 期号: 6, 页码: 5,485-489
作者:
刘明
;
殷华湘
;
王云翔
;
徐秋霞
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浏览/下载:21/0
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提交时间:2010/05/25
电子束曝光
凹槽图形 Uv3
正性抗蚀剂
曝光延迟效应
光刻
电子束曝光技术发展概况
期刊论文
OAI收割
世界产品与技术, 2002, 期号: 4, 页码: 3,27-29
作者:
刘明
;
张建宏
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2010/05/25
电子束
曝光技术
微电子技术
Sem
高斯扫描系统
成型束
抗蚀剂
甲基丙烯酸甲酯共聚物作为LIGA抗蚀剂的研究
期刊论文
OAI收割
微细加工技术, 2001, 期号: 3, 页码: 64-67
作者:
陈永明
;
彭良强
;
陈传福
;
伊福廷
;
习复
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提交时间:2015/12/25
甲基丙烯酸甲酯共聚物
LIGA
抗蚀剂
光敏性
PMMA在LIGA技术中的应用
期刊论文
OAI收割
微细加工技术, 2001, 期号: 4, 页码: 36-38+43
作者:
陈永明
;
伊福廷
;
陈传福
;
彭良强
;
习复
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提交时间:2015/12/25
LIGA技术
抗蚀剂
聚甲基丙烯酸甲酯
深度光刻