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机构
上海微系统与信息技术... [9]
新疆理化技术研究所 [5]
微电子研究所 [1]
长春应用化学研究所 [1]
采集方式
OAI收割 [16]
内容类型
期刊论文 [9]
学位论文 [4]
会议论文 [3]
发表日期
2022 [1]
2021 [1]
2020 [1]
2019 [1]
2014 [1]
2012 [2]
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质子辐照对RADFETs的γ辐照剂量响应的影响研究
期刊论文
OAI收割
核技术, 2022, 卷号: 45, 期号: 1, 页码: 39-45
作者:
马函1,2
;
孙静1
;
何承发1
;
荀明珠1
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浏览/下载:81/0
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提交时间:2022/01/25
RADFETs
质子辐照
γ剂量标定
陷阱电荷分离
不同温度辐照下栅控双极晶体管的总剂量效应参数退化研究(英文)
期刊论文
OAI收割
原子能科学技术, 2021, 卷号: 55, 期号: 12, 页码: 2183-2190
作者:
相传峰1,2
;
李小龙1
;
陆妩1,2
;
王信1
;
刘默寒1
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浏览/下载:46/0
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提交时间:2022/01/25
温度效应
总剂量效应
界面陷阱电荷
GLPNP双极晶体管
偏置条件对国产SiGe BiCMOS器件总电离辐射效应的影响
期刊论文
OAI收割
辐射研究与辐射工艺学报, 2020, 卷号: 38, 期号: 5, 页码: 64-70
作者:
王利斌
;
王信
;
吴雪
;
李小龙
;
刘默寒
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浏览/下载:30/0
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提交时间:2020/11/03
SiGe BiCMOS
偏置条件
电离总剂量
氧化物陷阱电荷
界面态
极端辐射环境下双极晶体管的剂量率效应研究
学位论文
OAI收割
中国科学院新疆理化技术研究所: 中国科学院大学, 2019
作者:
刘默寒
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浏览/下载:54/0
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提交时间:2019/07/15
双极晶体管
低剂量率辐射损伤增强效应
变温辐照加速评估方法
极高总剂量
氢化氧空位
界面陷阱电荷
氧化物陷阱电荷
CMOS有源像素图像传感器的电子辐照损伤效应研究
会议论文
OAI收割
中国甘肃兰州, 2014-08-13
作者:
玛丽娅
;
李豫东
;
郭旗
;
刘昌举
;
文林
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浏览/下载:24/0
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提交时间:2018/06/05
Cmos有源像素传感器
电子辐照
电离效应
暗电流
氧化物陷阱电荷
界面态缺陷
深亚微米闪存分立器件的总剂量辐射效应及加固技术研究
学位论文
OAI收割
博士: 中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所) , 2012
刘张李
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提交时间:2013/04/24
总剂量辐射效应
陷阱正电荷
浅沟槽隔离氧化物
辐射加固
深亚微米器件沟道长度对总剂量辐照效应的影响
期刊论文
OAI收割
物理学报, 2012, 期号: 5, 页码: 92-96
胡志远
;
刘张李
;
邵华
;
张正选
;
宁冰旭
;
毕大炜
;
陈明
;
邹世昌
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浏览/下载:49/0
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提交时间:2013/02/22
总剂量效应
浅沟槽隔离
氧化层陷阱正电荷
金属氧化物半导体场效晶体管
0.18μm MOSFET器件的总剂量辐照效应
期刊论文
OAI收割
物理学报, 2011, 期号: 11
刘张李
;
胡志远
;
张正选
;
邵华
;
宁冰旭
;
毕大炜
;
陈明
;
邹世昌
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浏览/下载:26/0
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提交时间:2012/04/13
总剂量效应
浅沟槽隔离
氧化层陷阱正电荷
MOSFET
注硅工艺对埋氧层中陷阱电荷的影响
会议论文
OAI收割
第十届全国抗辐射电子学与电磁脉冲学术年会, 2009
王茹
;
张正选
;
俞文杰
;
田浩
;
毕大炜
;
张帅
;
陈明
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浏览/下载:50/0
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提交时间:2012/01/18
总剂量效应 氧化物陷阱电荷 界面态陷阱电荷 注硅工艺 改性加固材料 抗辐射性能 金属氧化物半导体 场效应晶体管
先进三栅闪存器件工作特性及耐久性的研究
学位论文
OAI收割
博士: 中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所) , 2009
曹子贵
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浏览/下载:39/0
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提交时间:2012/03/06
三栅分栅闪存
耐久性
陷阱束缚电荷
耐久性优化
器件尺寸缩小