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机构
西安光学精密机械研... [18]
采集方式
OAI收割 [18]
内容类型
专利 [18]
发表日期
2009 [1]
2008 [1]
2007 [3]
2005 [2]
2003 [1]
2002 [1]
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半导体衬底及在半导体衬底上通过外延生长制造的半导体器件
专利
OAI收割
专利号: CN100449800C, 申请日期: 2009-01-07, 公开日期: 2009-01-07
作者:
橘浩一
;
本乡智惠
;
布上真也
;
小野村正明
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提交时间:2019/12/26
半导体激光元件
专利
OAI收割
专利号: CN100380696C, 申请日期: 2008-04-09, 公开日期: 2008-04-09
作者:
田中明
;
小野村正明
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提交时间:2020/01/18
窒化ガリウム系化合物半導体レーザ
专利
OAI收割
专利号: JP3946337B2, 申请日期: 2007-04-20, 公开日期: 2007-07-18
作者:
小野村 正明
;
波多腰 玄一
;
布上 真也
;
石川 正行
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提交时间:2019/12/24
氮化物半导体发光器件及其制造方法
专利
OAI收割
专利号: CN1949606A, 申请日期: 2007-04-18, 公开日期: 2007-04-18
作者:
松山隆之
;
小野村正明
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提交时间:2020/01/18
半導体素子及び半導体素子の製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP3905935B2, 申请日期: 2007-01-19, 公开日期: 2007-04-18
作者:
板谷 和彦
;
山本 雅裕
;
小野村 正明
;
藤本 英俊
;
波多腰 玄一
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提交时间:2019/12/26
窒化物系半導体レーザ装置の製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP3659621B2, 申请日期: 2005-03-25, 公开日期: 2005-06-15
作者:
小野村 正明
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提交时间:2019/12/26
窒化ガリウム系化合物半導体レーザ及びその製造方法
专利
OAI收割
专利号: JP3655066B2, 申请日期: 2005-03-11, 公开日期: 2005-06-02
作者:
小野村 正明
;
波多腰 玄一
;
板谷 和彦
;
吉田 博昭
;
鈴木 真理子
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提交时间:2019/12/24
半導体レーザ
专利
OAI收割
专利号: JP3464853B2, 申请日期: 2003-08-22, 公开日期: 2003-11-10
作者:
小野村 正明
;
西川 幸江
;
波多腰 玄一
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提交时间:2020/01/18
半導体レーザ装置
专利
OAI收割
专利号: JP3381976B2, 申请日期: 2002-12-20, 公开日期: 2003-03-04
作者:
櫛部 光弘
;
高岡 圭児
;
船水 将久
;
小野村 正明
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提交时间:2020/01/18
半導体レーザ装置
专利
OAI收割
专利号: JP3251615B2, 申请日期: 2001-11-16, 公开日期: 2002-01-28
作者:
平山 雄三
;
小野村 正明
;
森永 素安
;
鈴木 信夫
;
定政 哲雄
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提交时间:2020/01/13