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西安光学精密机械研... [10]
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OAI收割 [10]
内容类型
专利 [10]
发表日期
2011 [1]
2006 [1]
2005 [1]
2002 [2]
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2000 [1]
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Ⅲ-Ⅴ族氮化物系半导体衬底及其制造方法和Ⅲ-Ⅴ族氮化物系半导体
专利
OAI收割
专利号: CN1734247B, 申请日期: 2011-07-20, 公开日期: 2011-07-20
作者:
柴田真佐知
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提交时间:2019/12/26
生长GaN晶体衬底的方法和GaN晶体衬底
专利
OAI收割
专利号: CN1249780C, 申请日期: 2006-04-05, 公开日期: 2006-04-05
作者:
柴田真佐知
;
黑田尚孝
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提交时间:2019/12/26
基于Ⅲ族氮化物的半导体基片及其制造方法
专利
OAI收割
专利号: CN1218374C, 申请日期: 2005-09-07, 公开日期: 2005-09-07
作者:
碓井彰
;
柴田真佐知
;
大岛祐一
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提交时间:2019/12/26
基于氮化物的化合物半导体晶体衬底结构及其制造方法
专利
OAI收割
专利号: CN1387231A, 申请日期: 2002-12-25, 公开日期: 2002-12-25
作者:
碓井彰
;
柴田真佐知
;
大岛祐一
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提交时间:2020/01/18
Ⅲ族氮化物制造的半导体衬底及其制造工艺
专利
OAI收割
专利号: CN1378237A, 申请日期: 2002-11-06, 公开日期: 2002-11-06
作者:
碓井彰
;
柴田真佐知
;
大岛祐一
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提交时间:2020/01/18
AlGaInP系発光素子及び発光素子用エピタキシャルウェハ
专利
OAI收割
专利号: JP2001015801A, 申请日期: 2001-01-19, 公开日期: 2001-01-19
作者:
柴田 真佐知
;
今野 泰一郎
;
金田 直樹
;
柴田 憲治
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提交时间:2020/01/18
AlGaInP系発光素子及び発光素子用エピタキシャルウェハ
专利
OAI收割
专利号: JP2001007445A, 申请日期: 2001-01-12, 公开日期: 2001-01-12
作者:
柴田 真佐知
;
今野 泰一郎
;
金田 直樹
;
柴田 憲治
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提交时间:2019/12/31
発光素子用エピタキシャルウエハおよび発光素子
专利
OAI收割
专利号: JP2000307148A, 申请日期: 2000-11-02, 公开日期: 2000-11-02
作者:
柴田 憲治
;
柴田 真佐知
;
金田 直樹
;
今野 泰一郎
;
塚本 孝信
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提交时间:2019/12/31
GaN系素子用基板及びその製造方法及びGaN系素子
专利
OAI收割
专利号: JP1998107317A, 申请日期: 1998-04-24, 公开日期: 1998-04-24
作者:
柴田 真佐知
;
古屋 貴士
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提交时间:2019/12/31
発光素子
专利
OAI收割
专利号: JP1996167735A, 申请日期: 1996-06-25, 公开日期: 1996-06-25
作者:
海野 恒弘
;
柴田 真佐知
;
渡辺 真敏
;
高橋 健
;
隈 彰二
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提交时间:2020/01/13